- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
四探針測(cè)試儀是運(yùn)用四線法測(cè)量原理的多用途綜合測(cè)量裝置，配上專用的四探針測(cè)試架，就可以測(cè)量片狀，塊狀或柱狀半導(dǎo)體材料的徑向和軸向電阻率，測(cè)量擴(kuò)散層的薄層電阻（亦稱方塊電阻）。四探針測(cè)試架有電動(dòng)，手動(dòng)，手持三種可以選配，另外還配有四個(gè)夾子的四線輸入插頭用來(lái)作為測(cè)量線狀或片狀電阻的 中，低阻阻值.
四探針測(cè)試儀（Four-Point Probe）是一種用于測(cè)量材料電阻率（resistivity）和薄層電阻（sheet resistance）的高精度儀器，尤其適用于半導(dǎo)體、薄膜、導(dǎo)電涂層等材料的電學(xué)性能測(cè)試。其核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，從而獲得更準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。
典型應(yīng)用場(chǎng)景：
半導(dǎo)體行業(yè)：硅片、GaAs等晶圓的電阻率測(cè)試。摻雜工藝后的電學(xué)性能驗(yàn)證。
薄膜材料：ITO（透明導(dǎo)電膜）、太陽(yáng)能電池薄膜、金屬鍍層的薄層電阻測(cè)量。
科研領(lǐng)域：納米材料（石墨烯、碳納米管）、有機(jī)半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電性分析。
工業(yè)生產(chǎn)：液晶顯示（LCD）、柔性電路（FPC）的導(dǎo)電涂層質(zhì)量控制。
四探針測(cè)試儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
四探針測(cè)試儀 |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY- SZT |
|
|
測(cè)量范圍 |
電阻率 |
10??-105?-cm |
|
方塊電阻 |
10??- 105?/□ |
|
|
電阻 |
10-?- 105 ? |
|
|
可測(cè)半導(dǎo)體材尺寸 |
直 徑 |
Ф15-100mm |
|
長(zhǎng)（或高）度 |
≤400mm |
|
|
測(cè)量方位 |
軸向，徑向均可 |
|
|
數(shù)字電壓表 |
量程 |
20mV,200mV,2V |
|
誤差 |
±0.5%讀數(shù)±2字 |
|
|
輸入阻抗 |
>10?? |
|
|
分辨率 |
10μV |
|
|
點(diǎn)陣液晶顯示 |
過(guò)載顯示 |
|
|
恒流源 |
電流輸出 |
共分10μA,100uA,1mA,10mA,100mA五擋可通過(guò)按鍵選擇，各擋均為定值不可調(diào)節(jié)，電阻率探頭修正系和擴(kuò)散層方塊電阻修正系數(shù)均由機(jī)內(nèi)CPU運(yùn)算后，直接顯示修正后的結(jié)果 |
|
誤 差 |
±0.5%±2字 |
|
|
四探針測(cè)試頭 |
探 針 間 距 |
1mm |
|
探針機(jī)械游移率 |
±1.0% |
|
|
探 針 材 料 |
碳化鎢(或高速鋼),Ф0.5mm |
|
|
電 源 |
交流 |
220V±10% |
|
功耗 |
<35W |
|
