- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本儀器是一種高真空蒸發(fā)鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發(fā)源，并且樣品臺(tái)和蒸發(fā)源之間的距離是可調(diào)的。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機(jī)物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過(guò)程。 采用分子泵系統(tǒng)的**真空10E-4Pa，可有效提高涂層質(zhì)量，并能滿足大多數(shù)蒸發(fā)涂層實(shí)驗(yàn)所需的真空環(huán)境。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀用途：
卷繞式蒸發(fā)鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長(zhǎng)，大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物等。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
卷繞式高真空蒸發(fā)鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-EVH600R-II-HH-SS |
|
|
供電電壓 |
單相，AC220V, 50Hz |
|
|
真空腔體 |
內(nèi)壁處理 |
電解拋光 |
|
腔體材料 |
304不銹鋼 |
|
|
腔體尺寸 |
臥式Φ600mm×500mm |
|
|
觀察窗口 |
前置φ100mm含遮光片 |
|
|
開啟方式 |
前開門式 |
|
|
卷繞系統(tǒng) |
收放卷 |
Φ200mmx300mm |
|
速度 |
60m/min（可調(diào)） |
|
|
張緊 |
可調(diào) |
|
|
蒸發(fā)源和電源 |
部件數(shù)量 |
1套金屬蒸發(fā)源，帶獨(dú)立擋板 |
|
電極電壓 |
10V |
|
|
送絲速度 |
≤3m/min |
|
|
蒸發(fā)電流 |
功率2KW，*大電流為160A，調(diào)節(jié)精度為1A
|
|
|
蒸發(fā)器 |
鎢舟，1個(gè) |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級(jí)泵 |
雙極旋片泵，抽速1.1L/s |
|
渦輪分子泵 |
抽速：600L/s； 額定轉(zhuǎn)速：24000rpm； 啟動(dòng)時(shí)間：≦4.5min 冷卻方式：水冷+空冷 進(jìn)氣接口：ISO150 出氣接口：KF40 真空度：5.0*10-4Pa (5.0*10-6mbar) 抽真空到5.0×10-3 Pa (5.0*10-5mbar)的時(shí)間少于40分鐘 |
|
|
復(fù)合真空計(jì) |
測(cè)量范圍 105Pa~10-5Pa |
|
|
膜厚監(jiān)測(cè)儀 |
測(cè)量精度 |
0.1? |
|
測(cè)量速度 |
100ms-1s/次 |
|
|
可設(shè)置測(cè)量范圍 |
500000?（鋁） |
|
|
標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體 |
6MHz |
|
|
適用晶體尺寸 |
Φ14mm (標(biāo)配10片) |
|
|
空壓機(jī) |
作用于電控氣動(dòng)閥 |
|
|
水冷機(jī) |
冷卻水溫度：≦37℃ 流速：10L/min 功率：0.1KW 冷卻功率：50W/℃ 水箱容量：9L |
|
|
控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制器 |
|
