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CY-MSH300- II-RFRF-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)為我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，設備可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。
設備經過緊湊化設計，實現了體積與性能的平衡，造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制，內置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
技術參數：
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項目 |
明細 |
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產品型號 |
CY-MSH300- II-RFRF-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機功率 |
4KW |
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系統真空 |
≦5×10-4Pa |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ185mm |
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加熱溫度 |
≦500℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷卻模式 |
循環(huán)水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ325mm，高度500mm |
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腔體材質 |
SUU304不銹鋼 |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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開啟方式 |
頂開式 |
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氣體控制 |
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
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真空系統 |
配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S |
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膜厚測量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
射頻電源500W*2 |
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控制系統 |
CYKY自研專業(yè)級控制系統 |
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設備尺寸 |
600mm × 650mm × 1280mm |
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設備重量 |
350kg |
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