此次培訓(xùn)以蒸發(fā)鍍膜儀、等離子濺射鍍膜儀、以及二合一鍍膜儀三種產(chǎn)品為主要學(xué)習(xí)內(nèi)容。

蒸發(fā)鍍膜儀

真空蒸鍍是將鍍料在真空中加熱、蒸發(fā)，使蒸發(fā)的原子或原子團(tuán)在溫度較低的基板上析出形成薄膜。蒸發(fā)熱源采用電阻加熱法，電阻加熱一般用于熔點低于1500℃的鍍料，原理類似白熾燈，蒸發(fā)源的熔點需要很高，使用方便，結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉。蒸發(fā)鍍膜操作過程包括三步，即制造真空、鍍膜操作、以及破壞真空。

小型等離子濺射鍍膜儀

我們的小型等離子濺射鍍膜設(shè)備屬于zui簡單的直流二極濺射。

等離子鍍膜具有結(jié)構(gòu)簡單，控制不困難，操作重復(fù)性好（控制參數(shù)少）的優(yōu)點。但它的沉積速率不高，能量低，一般只有濺射金銀銅等效率比較好。小型等離子濺射鍍膜儀的鍍膜過程也是三步，即制造真空、鍍膜操作、以及破壞真空。

二合一鍍膜儀

二合一鍍膜儀是將小型蒸發(fā)鍍膜儀和小型等離子濺射鍍膜儀整合在一起的一臺設(shè)備。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單質(zhì)的薄膜。等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品表面噴金、蒸金或蒸碳過程使用以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。二合一鍍膜儀操作過程：制造真空、鍍膜操作、以及破壞真空。

小型鍍膜儀產(chǎn)品學(xué)習(xí)